硅溶膠（Colloidal Silica）為二氧化硅納米級(jí)粒子在水中形成的膠體，具有無(wú)臭、無(wú)毒、乳白色特征，粒徑10-20nm，高比表面積，分散性與滲透性優(yōu)異，廣泛用于粘合劑、拋光劑等領(lǐng)域。電子級(jí)硅溶膠純度 ≥99.999%，其具有高比表面積、低金屬離子、低大顆粒污染三大優(yōu)勢(shì)，是半導(dǎo)體、先進(jìn)封裝、藍(lán)寶石、SiC 晶圓化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）的電子拋光液的核心成分。
納米級(jí)硅溶膠的制備方法包括：高純水玻璃離子交換制備、高純硅粉溶解法、溶膠-凝膠法、水玻璃酸中和法、微乳液法等。
硅溶膠按照體系的酸堿度，可分為偏酸性、中性、偏堿性產(chǎn)品。
硅溶膠產(chǎn)品的純化包括，硅溶膠的濃縮、反應(yīng)體系中小分子雜質(zhì)的去除（特別是金屬離子的去除）。
膜過(guò)濾法在硅溶膠產(chǎn)品純化中，有廣泛應(yīng)用。
l 硅溶膠的濃縮
電子級(jí)硅溶膠除了粒徑大小和均一性要求外，通常要求硅溶膠濃度達(dá)到10~40%。
膜過(guò)濾濃縮，低溫脫水，金屬離子零新增，具有能耗低、精度高的特點(diǎn)，可通過(guò)高精度濾芯實(shí)現(xiàn)濃度達(dá)到35~40%。采用錯(cuò)流過(guò)濾方式，避免污堵，提高過(guò)濾通量和濃縮效率。
博納科技針對(duì)不同粒徑硅溶膠膜過(guò)濾濃縮工藝，在濃縮倍數(shù)、污堵控制、收率、過(guò)濾通量、濃縮液收集、工藝放大等方面，已進(jìn)行深入研究；在硅溶膠濃縮膜過(guò)濾系統(tǒng)的設(shè)計(jì)、生產(chǎn)制造、調(diào)試、運(yùn)行保障，已積累大量工程經(jīng)驗(yàn)。
l 金屬離子的去除
電子級(jí)硅溶膠要求總金屬離子含量≤1 ppm，甚至＜5ppb。特別是體系中的痕量Fe3+、Al3+殘留。采用膜過(guò)濾方式，避免了離子交換樹(shù)脂法的繁瑣和低效，更降低勞動(dòng)強(qiáng)度、減少物料損失。最重要的是，經(jīng)濃縮、洗濾，一次性得到金屬離子殘留合格的產(chǎn)品。
針對(duì)金屬離子含量達(dá)到ppb級(jí)別的產(chǎn)品，常規(guī)過(guò)濾方法已經(jīng)很難滿足質(zhì)量要求。博納科技已開(kāi)發(fā)金屬離子溶出更低的的膜元件和膜過(guò)濾系統(tǒng)，避免可能存在的金屬離子殘留影響。配合物料預(yù)處理控制、高純水洗濾工藝，滿足高質(zhì)量要求，并且膜系統(tǒng)穩(wěn)定高效運(yùn)行，實(shí)現(xiàn)連續(xù)化自動(dòng)化生產(chǎn)。
博納科技專注于物料分離領(lǐng)域，致力于膜分離技術(shù)的應(yīng)用工藝開(kāi)發(fā)，積累了豐富的產(chǎn)品純化經(jīng)驗(yàn)和工程化放大經(jīng)驗(yàn)，將工藝、膜元件與設(shè)備相結(jié)合，為客戶提供技術(shù)和解決方案，提供小型實(shí)驗(yàn)機(jī)、中試試驗(yàn)機(jī)和生產(chǎn)設(shè)備，從工藝路線到生產(chǎn)設(shè)備，提供整體服務(wù)，與客戶一道共同提升產(chǎn)品質(zhì)量和市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力。
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